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高频覆铜板从M6到M9:AI算力驱动下的材料迭代路线图

发布日期:2026-08-13 09:07:08  |  关注:2

在AI服务器和高速网络设备持续升级的背景下,覆铜板(CCL)材料正经历一场前所未有的技术迭代。从M6到M9,每一代材料的升级都对应着信号速率的跃升——从PCIe 5.0的32Gbps到112G PAM4,再到224G SerDes的下一代平台。理解这条材料迭代路线图,是把握高频高速PCB技术走向的关键。

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一、M系列材料的技术坐标系

M系列材料是行业对高速覆铜板性能等级的通用编码体系。它并非某个厂商的专属型号,而是代表材料在介电损耗(Df)、介电常数(Dk)和传输速率三个维度上的综合性能等级

等级对应速率树脂体系典型Df @10GHz代表应用
M625-56GbpsPPO/碳氢混合0.004-0.006AI服务器主板、112G平台
M756-112Gbps改性PPO为主0.003-0.004英伟达GB200计算板
M8112GbpsPPO:碳氢≈2:10.002-0.003800G交换机、加速卡
M9224Gbps碳氢:PPO≈2:1<0.0015下一代AI平台、224G SerDes

二、M6:AI服务器“底盘材料”的真正起点

M6是真正为AI服务器和112G PAM4速率设计的主力材料。它的出现标志着行业从“略微提升性能”转向了系统性重构。

核心变化

引入更低损耗的树脂体系(碳氢、苊烯开始登场)

介电更低的玻纤布

对铜箔粗糙度提出系统性要求

对制造端的影响:M6对PCB工厂提出了远超以往的要求——层压控制更严格、钻孔和背钻精度更高、阻抗仿真更精细、对材料批次稳定性高度依赖。这也是为什么并非所有工厂都能“接得住”M6的原因。

三、M7-M8:主流AI算力平台的“标配”

当前英伟达GB200平台的AI服务器已广泛采用M7及以上等级的高速CCL材料。根据行业数据,AI服务器相关PCB层数普遍提升至20至30层或更高,并对阻抗控制、串扰抑制等提出更高要求,驱动PCB产品由中低端通用板向高多层、高阶HDI板和高速高频板迁移。

M7-M8材料的技术要点

树脂体系以改性PPO为主体,部分引入碳氢树脂

损耗因子控制在0.002-0.004范围,满足112G PAM4传输需求

采用HVLP3/4级超低轮廓铜箔,表面粗糙度控制在1.0μm以下

生益科技、松下、斗山等全球主要覆铜板厂商均已实现M7-M8级别的批量供货。生益科技M7、M8等高毛利高速产品出货占比持续提升,已通过多家海内外终端客户认证并批量供货。

四、M9:为224G算力而生的系统级材料

如果说M6到M8是“性能进化”,那M9已是系统级重构。M9之所以重要,不是因为它某一个指标特别夸张,而是因为它把所有环节都拉到了极限。

M9的核心技术特征

维度M9技术路线意义
树脂体系碳氢树脂:PPO≈2:1,碳氢主导碳氢保障极低损耗(Df<0.0015),PPO兼顾加工可靠性
铜箔HVLP 4/5级(Rz≤0.6μm)趋肤效应损耗降至最低
玻纤布第三代ODK低介电玻纤布进一步降低介电常数与损耗
填料大比例球形硅微粉改善CTE匹配与尺寸稳定性

根据松下工业披露的数据,M9覆铜板的电路损耗较M8有着非常明显的下降,单通道接口速度可提升至224Gbps。由于M9的Df值远低于M8,原本广泛使用的PPO树脂已难以满足性能需求,M9更多地使用碳氢树脂及特种碳氢树脂。

山西证券研报预测,2025年全球电子级碳氢树脂需求量将达到1216吨,同比增长41.62%。

五、上游材料的“连锁反应”

M9的性能突破带动了整条上游供应链的升级需求:

树脂层面:传统PPO树脂的Df极限已触顶,M9推动行业向苊烯树脂(Df可达0.0005-0.0006)和BCB碳氢树脂等新型特种树脂演进。

铜箔层面:HVLP铜箔向4-5代演进,表面粗糙度要求从Rz≤2μm收紧至Rz≤0.6μm。目前HVLP等高端铜箔市场长期由日本三井、古河等企业主导,2024年外资厂商在国内高端铜箔市场份额超90%,国产替代空间广阔。

玻纤布层面:Low-Dk电子布从第一代向第三代演进,分别适配M7-M9级别覆铜板。预计到2033年全球低介电电子布市场规模将达23亿美元。

六、结语

从M6到M9,每一次材料升级本质上都是信号速率与算力密度提升倒逼的结果。M6解决了112G传输的基础损耗问题;M7-M8锁定了当前AI服务器的主流需求;M9则为224G和下一代算力平台铺平了道路。高盛预测,全球AI服务器CCL市场价值将在2026年同比增长142%,2027年同比增长222%。对于高频PCB行业而言,这条路线的终端意义在于:材料价值量持续提升,高多层板、高阶HDI和超低损耗材料的融合,正在重新定义高频高速PCB的技术边界。